DLT 502.3-2006 火力发电厂水汽分析方法 第3部分:全硅的测定(氢氟酸转化分光光度法).pdf

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  • 6.2.1.1按表1的规定取二氧化硅标准溶液I(1mL含0.05mgSiO2)注入一组聚乙烯瓶中,用滴定管 添加试剂水,使其体积为50.0mL。 6.2.1.2分别加三氯化铝溶液3.0mL,摇匀,用有机玻璃移液管准确加氢氟酸溶液(1+7)1.0mL,放置 5min。 6.2.1.3加盐酸溶液(1+1)1.0mL,摇匀,加钼酸铵溶液2.0mL,摇匀,放置5min,加草酸溶液2.0mL, 摇匀,放置1min,再加1,2,4酸还原剂2.0mL,放置8min。 6.2.1.4在分光光度计上用660nm波长、10mm比色皿,以试剂水作参比测定吸光度,根据测得的吸光 度绘制工作曲线或回归方程

    表11mg/L~5mg/LSi0,工作溶液的配制

    6.2.2水样全硅的测定。 6.2.2.1根据试验要求和水样含硅量的大小,准确吸取V(mL)水样注入聚乙烯瓶中,用滴定管添加试 剂水使其体积为50.0mL。加入盐酸溶液(1+1)1.0mL,摇匀,用有机玻璃移液管准确加入氢氟酸溶液 (1+7)1.0mL,摇匀,盖好瓶盖,置于沸腾水浴锅里加热15min。 6.2.2.2将加热好的水样置于冷水中冷却,试液温度控制在(27±5)℃(用空白试验作对比),然后加 三氯化铝溶液3.0mL,摇匀,放置5min。 注:空白试验是指量取50mL试剂水,注入聚乙烯瓶中,旋紧瓶盖后与水样一起置于沸腾水浴锅上加热15min,然 后与水样瓶同时放入冷水中冷却。在冷却过程中,可用温度计监测试剂水的温度,当空试验瓶内的试剂水降至 (27±5)℃C时,即认为水样已经冷却好,按6.2.2.1~6.2.2.4进行试验。 6.2.2.3加入钼酸铵溶液2.0mL,摇匀后放置5min。加草酸溶液2.0mL,摇匀,放置1min。加1,2,4酸 还原剂2.0mL,摇匀,放置8min。 6.2.2.4在分光光度计上用660nm波长、10mm比色血,以试剂水作参比测定吸光度,把查工作曲线或 由回归方程计算所得的数值再乘50/V,即为水样中全硅的含量Pg(SiO2)。 6.2.3水样中活性硅的测定。 6.2.3.1准确吸取V(mL)水样注入聚乙烯瓶中,用滴定管添加试剂水使其体积为50.0mL。 6.2.3.2加三氯化铝溶液3.0mL,摇匀,用有机玻璃移液管准确加入氢氟酸溶液(1+7)1.0mL,摇匀后 放置5min。 6.2.3.3加盐酸溶液(1+1)1.0mL,摇匀,加钼酸铵溶液2.0mL,摇匀后放置5min。加草酸溶液2.0mL, 摇匀后放置1min。再加1,2,4酸还原剂2.0mL,摇匀后放置8min。 6.2.3.4在分光光度计上用660nm波长、10mm比色皿,以试剂水作参比测定吸光度,把查工作曲线或 由回归方程计算所得的数值再乘50/V,即为水样中活性硅的含量p(SiO2)。 6.2.4水样中非活性硅的测定。

    6.3含硅量小于100ug/L水样的测定:

    6.3含硅量小于 100ug/L水样的测定

    6.3.1工作曲线的绘制。

    3.1.1按表2的规定,取二氧化硅标准溶液II(1mL含1μgSiO2),注入聚乙烯瓶中,并用滴定 试剂水,使其体积为50.0mL。

    表20ug/L~100mg/LSi0z工作溶液的配制

    aA为单倍试剂空白,试剂用量与正常加试剂量相同。 bAs为双倍试剂空白,试剂用量为所有试剂用量的二倍。

    6.3.1.2分别加硼酸溶液2.0mL,摇匀,用有机玻璃移液管准确加入氢氟酸溶液(1+84)0.5mL,摇匀, 放置5min。 6.3.1.3加盐酸溶液(1+1)1.0mL,摇匀,加钼酸铵溶液2.0mL,摇匀后放置5min。加草酸溶液2.0mL, 摇匀后放置1min。加1,2,4酸还原剂2.0mL,摇匀后放置8min。 6.3.1.4在分光光度计上,用波长810nm、100mm比色血,以试剂水作参比测定吸光度。测得吸光度 须作如下修正后才能绘制工作曲线或回归方程。

    6.3.4水样中非活性硅的测定。 水样中非活性硅pr(SiO,)的含量(μg/L)按式(2)计算:

    在整个测试过程中,应严防污染,特别是对微量硅的测定,所用聚乙烯器血在使用前应用(1+1) 和(1+1)氢氟酸混合液浸泡过夜后,用试剂水充分冲洗后备用。在测试过程中如发现个别瓶(杯) 据明显异常,应弃去不用。 注1:氢氟酸对人体有毒害,特别是对眼睛、皮肤有强烈的侵蚀性。使用时应采取必要的防护措施,例如在通风柜 中操作,并戴医用橡胶手套或指套等。 注2:氢氟酸、盐酸试剂中含硅量较大,应尽可能采用优级纯或更高级别试剂,并每次用量要准确。 注3:三氯化铝和硼酸都可以作掩蔽剂和解络剂,前者适于测定含硅量较大的水样,后者适于测定含硅量较小的水样。 注4:非活性硅含量较高的水样,用氢氟酸溶液(1+7)1.0mL足以转化完全。多加氢氟酸反而会使氟离子掩蔽不完 全而导致测定结果偏低。 注5:氢氟酸对玻璃器血的腐蚀性极大,故在加入掩蔽剂前,严禁试样接触玻璃器血。 注6:加入掩蔽剂后应将水样充分摇匀,并按规定等待5min。否则由于掩蔽不完全而导致含硅量大大偏低,甚至出 现负数。 注7:测定生水或含硅量较大水样中的活性硅时,可以不稀释而用硅钼黄法测定,相应的绘制硅钼黄工作曲线(即 硅钼蓝法不加1,2,4酸还原剂)。 注8:在日常运行监督控制中,如不需要进行全硅分析,则可在绘制工作曲线时不加氢氟酸及解络剂,直接按活性 硅法绘制工作曲线及进行水样的测定。若水样温度以及环境温度低于20℃,则所得结果会大大偏低。为避免 温度低的影响,应采用水浴加热水样,并使其温度保持在(27±5)℃。 注9:含硅量为0.1mgL~1mg的水样,可用试剂水稀释后按含硅量小于100μgL水样的测定方法测定。 注10:二氧化硅标准溶液也可用硅酸钠配制,但浓度应以重量法校正,其方法如下:称取硅酸钠(Na2SiO,·9H2O) 5.0g溶于约200mL试剂水中,稀释至1L。取100mL溶液两份,用重量法测定其浓度。根据测定结果,按照 计算取一定体积硅酸钠落液,稀释成为1mL含0.1mgSiO2的标准落液, 注11:1,2,4酸还原剂有强烈的刺激性气味,也可用4%的抗坏血酸(加入量为3mL)代替,但是,抗坏血酸溶 液不稳定,宜使用时配制。

    在整个测试过程中,应严防污染,特别是对微量硅的测定,所用聚乙烯器血在使用前应用(1+1) 和(1+1)氢氟酸混合液浸泡过夜后,用试剂水充分冲洗后备用。在测试过程中如发现个别瓶(杯) 据明显异常,应弃去不用。 注1:氢氟酸对人体有毒害,特别是对眼睛、皮肤有强烈的侵蚀性。使用时应采取必要的防护措施,例如在通风柜 中操作,并戴医用橡胶手套或指套等。 注2:氢氟酸、盐酸试剂中含硅量较大,应尽可能采用优级纯或更高级别试剂,并每次用量要准确。 注3:三氯化铝和硼酸都可以作掩蔽剂和解络剂,前者适于测定含硅量较大的水样,后者适于测定含硅量较小的水样。 注4:非活性硅含量较高的水样,用氢氟酸溶液(1+7)1.0mL足以转化完全。多加氢氟酸反而会使氟离子掩蔽不完 全而导致测定结果偏低。 注5:氢氟酸对玻璃器血的腐蚀性极大,故在加入掩蔽剂前,严禁试样接触玻璃器皿。 注6:加入掩蔽剂后应将水样充分摇匀,并按规定等待5min。否则由于掩蔽不完全而导致含硅量大大偏低,甚至出 现负数。 注7:测定生水或含硅量较大水样中的活性硅时,可以不稀释而用硅钼黄法测定,相应的绘制硅钼黄工作曲线(即 硅钼蓝法不加1,2,4酸还原剂)。 注8:在日常运行监控制中,如不需要进行全雄分析,则可在绘制工作曲线时不加氢氟敲及解络剂,直接按活性 硅法绘制工作曲线及进行水样的测定。若水样温度以及环境温度低于20℃,则所得结果会大大偏低。为避免 温度低的影响,应采用水浴加热水样,并使其温度保持在(27±5)℃。 注9:含硅量为0.1mgL~1mg的水样,可用试剂水稀释后按含硅量小于100μgL水样的测定方法测定。 注10:二氧化硅标准溶液也可用硅酸钠配制,但浓度应以重量法校正,其方法如下:称取硅酸钠(Na2SiO,·9H2O) 5.0g溶于约200mL试剂水中,稀释至1L。取100mL溶液两份,用重量法测定其浓度。根据测定结果,按照 计算取一定体积硅酸钠落液,稀释成为1mL含0.1mgSiO2的标准落液, 注11:1,2,4酸还原剂有强烈的刺激性气味,也可用4%的抗坏血酸(加入量为3mL)代替,但是,抗坏血酸溶 液不稳定,宜使用时配制。

    相对偏差为±5%。 当水样中全硅含量较高而非活性硅含量较低时门窗标准规范范本,非活性硅的相对偏差允许±10%。

    分析报告应包括下列各项: a)注明引用本标准; b)分析水样的完整标识,包括水样名称、采样地点、采样日期、采样人、厂名等 c)水样中含硅量,μg/L或mg/L; d)分析人员和分析日期。

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