武汉光电国家实验楼工程施工组织设计
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第一章 工程概况
第一节 工程概述
武汉光电国家实验楼工程位于武汉市关山二路，是一座现代化的国家光电楼。建筑面积F区6953M2、G区6092M2、H区5547M2、J区802M2，框架结构四层，建筑高度为20.8米，外窗为铝合金窗，内门为实木门、防火门、普通门。外墙为高级涂料，内墙为混合砂浆饰面。厨房卫生间为釉面砖。楼地面为普通水泥砂浆、地面砖和花岗岩，顶棚为混合砂浆、纤维板、PVC板。屋面排水为天沟内排水。本工程结构为全框架现浇钢筋砼结构，基础采用独立承台，基础砼标号为C25，梁板柱为C30,填充墙为加气砼块。
本工程正负零相当于绝对标高21.6米，结构安全等级为二级，6度抗震设防，丙类建筑框架抗震等级为四级。
第二节 工程招标要求
本次招标范围包括由中国光电子设计院设计的华中科技大学国家光电实验楼土建工程全套图纸的全部内容。
不包括桩基础和水电安装工程。
不包括招标书编制说明及图纸答疑内不在投标之列的各项内容。
本工程的施工严格执行国家现行施工规范及验收规范，要求达到武汉高优质工程标准。
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